伊藤 昌文 | 名古屋大学工学研究科
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概要
関連著者
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伊藤 昌文
名古屋大学工学研究科
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後藤 俊夫
名古屋大学 工学研究科量子工学専攻
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後藤 俊夫
名古屋大学
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堀 勝
名古屋大学
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後藤 俊夫
名古屋大学化学科
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後藤 俊夫
Imram Tohoku University
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堀 勝
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
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Hori Masaru
School Of Engineering Nagoya University
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松田 文夫
豊田工業高等専門学校
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松田 文夫
岐阜工業高等専門学校
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羽根 一博
名大工
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中村 成志
名古屋大学工学研究科
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羽根 一博
名古屋大学工学部
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伊藤 昌文
名古屋大学工学部
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名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
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小林 重人
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平松 美根男
名城大学理工学部電気電子工学科
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河野 明廣
名古屋大
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平松 美根男
名城大学・理工
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Ishii Nobuo
Corporate R&D Central Research Laboratory, Tokyo Electron Ltd. 650 Mitsuzawa, Hosaka-cho, Nirasaki, Yamanashi 407-0192, Japan
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Ishii Nobuo
Corporate R&D Central Research Laboratory, Tokyo Electron Limited, Hosaka-cho, Nirasaki 407-01, Japan
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中山 博貴
名古屋大学工学研究科
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河口 寿夫
名古屋大学工学部
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武田 浩久
名古屋大学・工
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山本 康雄
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後藤 敏夫
名古屋大学工学研究科
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後藤 俊夫
名古屋大学大学院工学研究科
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上飯坂 純
名古屋大学・工学研究科
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菅沼 伸志
名古屋大学
著作論文
- ECR C_4F_8プラズマにおけるCFxラジカル絶対密度の空間分布の計測とその分布形成機構
- CFxラジカル絶対密度のIRLAS空間分布測定
- ディジタル信号処理FMヘテロダイン干渉法による近距離検出
- フォトサーマル効果を用いた近接距離検出法
- 円形回折格子のレーザ回折光を用いた基準位置検出法
- 低温多結晶シリコン薄膜の成長表面の評価
- ECR水素 プラズマアニール過程の in situ PM-IR-RAS 観察
- OHラジカル注入によって形成したダイヤモンド薄膜のSTM/STS解析
- レーザーアブレーションを用いた環境調和型チャンバークリーニングプロセス
- レーザーアブレーションを利用した新規ラジカル注入法によるSiO_2/Si選択エッチングプロセスの制御
- SR光によるCF_2薄膜およびフロライド金属薄膜の微細加工
- 6. フルオロカーボンラジカル(CF_x)の表面反応過程 : 材料プロセス用フルオロカーボンプラズマに関する基礎研究の進展
- ECR SiH_4プラズマ中のSi原子及びイオンの挙動