超臨界流体を用いたSiO_2製膜における酸化剤効果
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概要
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- 2010-06-17
著者
-
杉山 正和
東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻
-
霜垣 幸浩
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
-
杉山 正和
東大 大学院
-
杉山 正和
東京大学大学院総合研究機構
-
杉山 正和
東京大学
-
山田 英雄
BEANSプロジェクト3D BEANSセンター
-
百瀬 健
東京大学
-
北村 康宏
株式会社デンソー
-
服部 有
株式会社デンソー
-
杉山 正和
東京大学大学院 工学系研究科
-
霜垣 幸浩
東京大学
-
霜垣 幸浩
Univ. Of Tokyo Tokyo Jpn
-
山田 英雄
Beans研究所
-
百瀬 健
東京大学大学院工学系研究科
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