Effect of Partial Pressure of TiCl_4 and NH_3 on Chemical Vapor Deposition Titanium Nitride (CVD-TiN) Film Cl Content and Electrical Resistivity
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概要
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- Japan Society of Applied Physicsの論文
- 2004-04-15
著者
-
霜垣 幸浩
Univ. Of Tokyo Tokyo Jpn
-
SHIMOGAKI Yukihiro
Department of Materials Engineering, The University of Tokyo
-
JUN Keeyoung
Department of Materials Engineering, School of Engineering, University of Tokyo
-
Jun Keeyoung
Department Of Materials Engineering School Of Engineering University Of Tokyo
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