25aD01 薄膜初期堆積過程におけるCVD成長モード(ナノ粒子・ナノ構造(1),第34回結晶成長国内会議)

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概要

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• Initial stage of film deposition has provoked a great interest, especially in physical vapor deposition (PVD). Nucleation theories have also modeled island nucleation processes during PVD. Comparing with the extensive research in PVD, there is less intension on chemical vapor deposition (CVD) despite its technological importance. In this work, we consider the characteristics of initial stage of CVD, which differs from that of PVD.

• 日本結晶成長学会の論文
• 2004-08-25

著者

• 野田 優

  東大院工

• 小宮山 宏

  東京大学

• 小宮山 宏

  東大院工

• 霜垣 幸浩

  Univ. Of Tokyo Tokyo Jpn

• 梶川 裕矢

  東大院工

• 津村 猛

  東大院工

• 土屋 俊博

  東大院工

• 霜垣 幸浩

  東大院工

• 小宮山 宏

  東大・工

• 小宮山 宏

  東京大学 大学院 工学研究科 化学システム工学 専攻

• 梶川 裕矢

  東京大学工学系研究科

• 小宮山 宏

  東大

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