百瀬 健 | 東京大学大学院工学系研究科
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概要
関連著者
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百瀬 健
東京大学大学院工学系研究科
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百瀬 健
東京大学
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霜垣 幸浩
東京大学
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霜垣 幸浩
Univ. Of Tokyo Tokyo Jpn
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杉山 正和
東大 大学院
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杉山 正和
東京大学大学院総合研究機構
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杉山 正和
東京大学大学院 工学系研究科
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杉山 正和
東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻
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霜垣 幸浩
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
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杉山 正和
東京大学
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山田 英雄
BEANSプロジェクト3D BEANSセンター
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霜垣 幸浩
東京大学大学院化学システム工学専攻
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山田 英雄
Beans研究所
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百瀬 健
東京大学大学院工学系研究科博士課程
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清水 秀治
東京大学大学院工学系研究科
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小林 芳彦
大陽日酸株式会社
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小林 芳彦
大陽日酸(株)
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川原 伸章
(株)デンソー 基礎研究所
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北村 康宏
株式会社デンソー
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服部 有
株式会社デンソー
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上嶋 健嗣
東京大学
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三田 吉郎
東京大学
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久保田 雅則
東京大学
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浅海 一志
デンソー
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川原 伸章
デンソー
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森下 賢志
東京大学工学部電子工学科
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小林 芳彦
大陽日酸株式会社電子機材事業本部事業戦略推進部先端技術開発部
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霜垣 幸治
東京大学
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清水 秀治
大陽日酸株式会社
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木原 泰樹
東京大学
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近藤 愛子
東京大学
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森下 賢志
東京大学
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嶋 絋平
東京大学大学院工学系研究科
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清水 秀治
東京大学大学院工学系研究科:大陽日酸株式会社
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百瀬 健
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
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嶋 紘平
東京大学大学院工学系研究科
著作論文
- 超臨界流体を用いたSiO_2製膜における酸化剤効果
- MEMS応用に向けた超臨界流体を用いた金属薄膜形成技術の開発
- 超臨界流体を用いたSiO_2製膜の開発
- 超臨界流体を利用した金属薄膜形成技術 (特集 超臨界流体--ここまできた技術開発・応用性)
- 超臨界流体を用いたCu薄膜の形成とULSI配線形成への応用 (マテリアルスポット MEMS,半導体,オプトエレクトロニクスにまで可能性を持つ 超臨界流体.超臨界CO2を用いた新しいマテリアル開発のトレンド)
- 超臨界流体を用いた電子デバイス用薄膜形成プロセス
- 超臨界二酸化炭素を用いた薄膜形成 (新春特集 ナノテクノロジーのための超臨界流体技術)
- ステルスダイシングを利用した埋め込み式予約素子分離法
- 超臨界流体製膜における新コンセプトリアクタとウェハスケール反応器設計
- ALD/CVDによる次世代Cu配線用単層バリヤ/ライナーCo(W)膜(配線・実装技術と関連材料技術)
- 電子デバイスへの応用を目指した超臨界流体を用いた薄膜作製技術
- ALD/CVDによる次世代Cu配線用単層バリヤ/ライナーCo(W)膜