霜垣 幸浩 | 東京大学大学院化学システム工学専攻
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概要
関連著者
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霜垣 幸浩
東京大学大学院化学システム工学専攻
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霜垣 幸浩
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
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霜垣 幸浩
Univ. Of Tokyo Tokyo Jpn
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霜垣 幸浩
東京大学
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杉山 正和
東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻
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杉山 正和
東大 大学院
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杉山 正和
東京大学大学院総合研究機構
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杉山 正和
東京大学大学院 工学系研究科
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中野 義昭
東京大学先端科学技術研究センター
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中野 義昭
東京大学先端研
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塩田 倫也
東京大学先端科学技術研究センター:東京大学大学院工学系研究科
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富田 祐貴
東京大学大学院工学系研究科
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百瀬 健
東京大学大学院工学系研究科
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百瀬 健
東京大学
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小宮山 宏
東京大学
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小宮山 宏
東京大学大学院工学系研究科 化学システム工学専攻
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百瀬 健
東京大学大学院工学系研究科博士課程
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小宮山 宏
東大・工
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小宮山 宏
東大
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清水 秀治
東京大学大学院工学系研究科
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小林 芳彦
大陽日酸株式会社
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香田 忍
名古屋大学大学院工学研究科
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アルーアミン アブドゥッラー
東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻
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櫻井 謙司
東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻
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宋 学良
東京大学先端科学技術研究センター
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イット フーチョン
東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻
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李 寧
東京大学大学院工学系研究科電子工学専攻
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脇 一太郎
東京大学先端科学技術研究センター
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小林 芳彦
大陽日酸(株)
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筒井 俊雄
鹿児島大学大学院理工学研究科化学生命・化学工学専攻
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吉田 昌弘
鹿児島大学工学部 応用化学工学科
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アルアミン アブドゥッラー
株式会社KDDI研究所
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アルアミン アブドゥッラー
KDDI研究所
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中野 義夫
東京工業大学大学院総合理工学研究科 化学環境学専攻
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中野 義夫
東京工業大学大学院
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江頭 靖幸
大阪大学大学院基礎工学研究科
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足立 毅太郎
九州工業大学 工学部 物質工学科
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伊藤 直次
宇都宮大学工学部 応用化学科
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野田 優
東大院工
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李 寧
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
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増田 隆夫
北海道大学大学院工学研究科
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増田 隆夫
京都大学工学部
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草壁 克己
福岡女子大学 人間環境学部 生活環境学科
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森 康維
同志社大学工学部物質化学工学科
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伊藤 直次
物質工学工業技術研究所
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香田 忍
名古屋大学
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宋 学良
東京大学 先端科学技術研究センター
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塚田 隆夫
東北大学反応化学研究所
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白石 文秀
九州工業大学情報工学部
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羽路 伸夫
横浜国立大学大学院工学研究院
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中野 義昭
東京大学大学院工学系研究科
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山田 由岐夫
東京大学大学院工学系研究科
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宮村 宏
(株) ラボ
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香田 忍
名古屋大工
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菅原 活郎
日本大学工学部情報工学科
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野田 優
東京大学大学院工学系研究科化学システム工学
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増田 隆夫
北海道大学大学院工学研究科有機プロセス工学専攻
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白石 文秀
九州大学バイオアーキテクチャーセンター
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小林 芳彦
大陽日酸株式会社電子機材事業本部事業戦略推進部先端技術開発部
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草壁 克己
九州大学大学院工学研究院 応用化学部門
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羽路 伸夫
横浜国立大学
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平井 里佳
東京大学大学院工学系研究科
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足立 毅太郎
塗布技術研究会
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國重 雅之
日本大学工学部 情報工学科
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蔡 容基
東京大学大学院工学系研究科
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森 康維
同志社大学
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森 康維
同志社大学工学部
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江頭 靖幸
大阪大学大学院 基礎工学研究科 物質創成専攻化学工学領域
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中野 義夫
東京工業大学
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伊藤 直次
宇都宮大学大学院工学研究科物質環境化学専攻
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白石 文秀
九州工業大学
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江頭 靖幸
大阪大 大学院基礎工学研究科
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足立 毅太郎
九州工業大学工学部
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筒井 俊雄
鹿児島大学工学部
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筒井 俊雄
鹿児島大学大学院理工学研究科
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吉田 昌弘
鹿児島大学大学院 理工学研究科 化学生命・化学工学専攻
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草壁 克己
福岡女子大学人間環境学部
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吉田 昌弘
鹿児島大学工学部
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清水 秀治
大陽日酸株式会社
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増田 隆夫
北海道大学 大学院工学研究院
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嶋 絋平
東京大学大学院工学系研究科
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清水 秀治
東京大学大学院工学系研究科:大陽日酸株式会社
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筒井 俊雄
鹿児島大学
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伊藤 直次
宇都宮大学大学院工学研究科 物質環境化学専攻
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吉田 昌弘
鹿児島大学 大学院理工学研究科
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嶋 紘平
東京大学大学院工学系研究科
著作論文
- 化合物半導体集積光デバイスとドライエッチング技術
- 選択領域有機金属気相成長の気相拡散効果を用いたInGaN系多波長発光素子の検討(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
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- CVD
- 超臨界流体を用いた電子デバイス用薄膜形成プロセス
- 反応工学
- CVD
- PECVDによる低誘電率層間絶縁膜用a-C:F膜の合成( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
- 材料化学工学
- PIMとPDA
- 反応を利用したアモルファス合金の多孔質化
- SiH_4/Si_2H_6を用いた選択的シリサイド化によるCu配線酸化防止用CoSi層の形成
- 3次元コンピュータシミュレーションを利用したCVD装置設計 - ガスアウトレットの効果 -
- ALD/CVDによる次世代Cu配線用単層バリヤ/ライナーCo(W)膜(配線・実装技術と関連材料技術)
- ALD/CVDによる次世代Cu配線用単層バリヤ/ライナーCo(W)膜