メタン及び窒素プラズマソースを用いて作製したアモルファスカーボン薄膜の特性評価(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
カーボン(C)は, ダイヤモンドやグラファイトなど多くの同素体があり, 多様性に富んだ材料である.本研究では, アモルファスカーボン(a-C)薄膜を電子デバイスとして応用することを目的とし, a-C薄膜に窒素のドーピングを試みた.メタン及び窒素プラズマ源を別に設ける「ダブルビーム法」により, a-C薄膜への窒素ドーピングを行った.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-05-19
著者
-
神保 孝志
名古屋工業大学極微構造デバイス研究センター
-
鎌田 直樹
名古屋工業大学工学研究科
-
曽我 哲夫
名古屋工業大学工学研究科未来材料創成工学専攻
-
林 靖彦
名古屋工業大学工学研究科未来材料創成工学専攻
-
神保 孝志
三重大学電気電子工学科
-
林 靖彦
名古屋工業大学
-
神保 孝志
名古屋工業大学
-
Jimbo T
Nagoya Inst. Technol. Nagoya Jpn
関連論文
- Si基板上GaN系発光ダイオードの結晶成長及び諸特性
- Characterization of TiO2 Incorporated Zeolite Thin Films for solar Cell Application
- Theoretical Performance Study of n-TiO2/p-CuInSe2 Solar Cell and Its Modification for Improved Efficiency
- C-4-34 Si基板上InGaN MQW LEDの作製
- メタン及び窒素プラズマソースを用いて作製したアモルファスカーボン薄膜の特性評価(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
- Si基板上にSeS_2を用いて接着した高品質GaAs薄膜の作製とそのデバイス応用
- Boron and phosphorus electronic doping of amorphous carbon by pulsed laser deposition using graphite target
- Studies on transparent semiconducting cuI films deposited by XeCl excimer laser and fabrication of p-CuI|n-TiO2 solar cells
- エピタキシャルリフトオフ法によるSi基板上GaAs太陽電池の特性(III族窒化物研究の最前線)
- Structural and electrical properties aof amorphous Carbon Nitride films from camphoric Carbon