希塩酸処理プロセスによるBi-2212スタックの作製と特性評価
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概要
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我々は、希塩酸処理プロセスを用いて固有ジョセフソン接合の作製・評価を進めている.従来のプロセスでは,スタック高さを決める改質層厚(<40nm)を,そのまま自己平坦化層として用いていた.このため,結晶(サイズ:1×1mm^2)の端部及び、配線用Au膜とBi-2212結晶との間でマイクロショートの危険があった.マイクロショートは固有ジョセフソン接合のI-V特性(I_r,I_c)に影響を与えるため,固有Josephson特性の評価を困難にする.これを解決するために,本研究では接合窓近傍以外のBi-2212結晶を全て改質させ,絶縁性結晶にするプロセスを開発した.このプロセスにより,再現性よく77Kで明瞭なヒステリシスをもつ固有ジョセフソン接合を作製することができた.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2007-07-20
著者
-
濱崎 勝義
長岡技術科学大学工学部電気系
-
島影 尚
独立行政法人情報通信研究機構
-
吉田 隆
長岡技術科学大学工学部電気系
-
加藤 孝弘
長岡技術科学大学
-
加藤 孝弘
長岡技術科学大学工学部電気系
-
名和 海明
長岡技術科学大学工学部電気系
-
富永 隼賢
長岡技術科学大学工学部電気系
-
染谷 和樹
長岡技術科学大学 工学部 電気系
-
毛利 千里
長岡技術科学大学 工学部 電気系
-
入江 勇太
長岡技術科学大学 工学部 電気系
-
染矢 和樹
長岡技術科学大学
-
濱崎 勝義
長岡技術科学大学
-
名和 海明
長岡技術科学大学 工学部 電気系
-
富永 隼賢
長岡技術科学大学
-
富永 隼賢
長岡技術科学大学 工学部 電気系
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