自己平坦化法によるBi-2212スタックの作製(薄膜プロセス・材料, 一般)
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概要
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Bi_2Sr_2CaCu_2O_y(Bi-2212)スタック型固有Josephson接合を作製するために自己平坦化法を開発した.この方法は接合窓以外のBi-2212単結晶を希塩酸により改質させるものである.改質された絶縁層はスタック(Josephson接合のナノアレイ)の自己平坦化層となるため, SiO_2等の平坦化用薄膜を新たに成膜する必要がない.そのため, 従来のArイオンミリングを用いたプロセスを大幅に簡略化できる.この方法で作製したBi-2212スタック型素子は, 77KにおいてもI-V特性上に明瞭なブランチ構造が観測され, 超伝導量子干渉素子(SQUID)への応用が期待できる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-11-04
著者
-
濱崎 勝義
長岡技術科学大学工学部電気系
-
岡上 久美
長岡技術科学大学 工学部 電気系
-
鈴木 光夫
長岡技術科学大学
-
余川 奈保美
長岡技術科学大学
-
ラッタナット ファチャムルン
長岡技術科学大学工学部電気系
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岡上 久美
長岡技術科学大学
-
濱崎 勝義
長岡技術科学大学
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