Multilevel Aluminum Dual-Damascene Interconnects for Process-Step Reduction in 0.18 μm ULSIs

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1999-04-30

著者

• 林 康明

  京都工芸繊維大学大学院

• 林康 明

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 林 康明

  京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科

• Hayashi Yutaka

  Device Synthesis Section Electrotechnical Laboratory

• Hayashi Yuzo

  Irie Koken Co. Ltd.

• Hayashi Y

  Irie Koken Co. Ltd. Saitama Jpn

• Takewaki Toshiyuki

  Nec Electronics Corporation

• SHIBA Kazutoshi

  NEC Electronics Corporation

• KUBO Akira

  NEC Electronics Corporation

• Kikuta Kuniko

  Ulsi Device Development Laboratories Nec Corporation

• SHIBA Kazutoshi

  Silicon Systems Research Laboratories, NEC Corporation

• WAKABAYASHI Hitoshi

  Silicon Systems Research Laboratories, NEC Corporation

• TAKEWAKI Toshiyuki

  ULSI Device Development Laboratories, NEC Corporation

• KUBO Akira

  ULSI Device Development Laboratories, NEC Corporation

• YAMASAKI Shinya

  ULSI Device Development Laboratories, NEC Corporation

• HAYASHI Yoshihiro

  Silicon Systems Research Laboratories, NEC Corporation

• Yamasaki S

  Ulsi Device Development Laboratories Nec Corporation

• Yamasaki Shinya

  Ulsi Device Development Laboratories Nec Corporation

• Shiba K

  Nec Electronics Corporation

• Shiba Kazutoshi

  Ulsi Device Development Division Nec Corporation

• Wakabayashi H

  Taiyo Yuden Co. Ltd. Gunma Jpn

• Wakabayashi Hitoshi

  Silicon Systems Research Laboratories Nec Corporation

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