26a-P-5 モノメチルシランを用いたRFプラズマCVD法によるシリコンカーバイド膜の生成機構
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概要
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- 1998-09-05
著者
-
金子 聰
東理大・理
-
宮川 宣明
諏訪東理大・機械システム
-
宮川 宣明
東理大・理
-
曾根 逸人
理研:群大工
-
曾根 逸人
東理大・理・応物
-
山崎 弘祥
東理大・理・応物
-
曽根 逸人
理研
-
山崎 弘祥
東理大・理
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