28aTA-4 プラズマCVD法によるシリコンカーバイド薄膜のFTIRと生成機構

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2001-03-09

著者

• 金子 聰

  東理大・理

• 宮川 宣明

  諏訪東理大・機械システム

• 宮川 宣明

  東理大・理

• 飯川 裕也

  理研

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