曾根 逸人 | 東理大・理・応物

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概要

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• 東理大・理・応物の論文著者

関連著者

• 金子 聰

  東理大・理

• 宮川 宣明

  諏訪東理大・機械システム

• 宮川 宣明

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• 曾根 逸人

  理研:群大工

• 曾根 逸人

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• 山崎 弘祥

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• 曽根 逸人

  理研

• 山崎 弘祥

  東理大・理

• 山田 大輔

  東理大・理・応物

著作論文

• 23aB12 シリコンカーバイドCVD過程における2サイト競合吸着モデル(エピタキシャル成長II)
• 26a-P-5 モノメチルシランを用いたRFプラズマCVD法によるシリコンカーバイド膜の生成機構
• 熱重量天秤を用いたシリコンカーバイドCVD過程の成長モデルII : 気相成長III
• MTSを用いたCVD法によるSiC薄膜の配向性 : 気相成長III
• モノメチルシランを用いたRFプラズマCVD法によるシリコンカーバイドの成膜 : 気相成長III
• 30p-YE-2 RFプラズマCVD法によるMTSからのシリコンカーバイド膜生成過程の発光分光

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