5p-I-6 低温低周波プラズマCVDによるシリコン窒化膜生成と放電条件について
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1984-09-10
著者
-
下妻 光夫
北海道大学
-
長谷川 英機
北海道大学
-
北守 一隆
北海道工業大学
-
田頭 博昭
北海道大学工学部
-
大野 英男
東北大学 電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設
-
大野 英男
北海道大学工学部電気工学科
-
大野 英男
北海道大学工学部
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