22pYE-7 シアン化物イオンによるSi表面の金属脱離(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2005-08-19
著者
-
小林 光
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
小林 光
大阪大学産業科学研究所
-
高橋 昌男
阪大産研
-
劉 〓伶
阪大産研
-
成田 比呂晃
阪大産研
-
小林 光
阪大産研,科技振・戦略基礎
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高橋 昌男
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
劉 〓伶
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
小林 光
大阪大学産業科学研究所:crest-jst
-
成田 比呂晃
大阪大学産業科学研究所:crest-jst
-
Takahashi Masao
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
小林 光
阪大産研
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