シアン処理によるSi/SiO_2界面の界面準位の消滅とMOSダイオードの高性能化

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概要

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• 日本真空協会の論文
• 2002-11-20

著者

• 小林 光

  阪大産研:科技振・戦略基礎

• 小林 光

  大阪大学産業科学研究所

• 小林 光

  阪大産研:crest-jst

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