29pPSA-7 化学的手法で形成した極薄SiO_2膜の物性とリーク電流低減
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2001-03-09
著者
-
小林 光
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
小林 光
阪大産研,科技振・戦略基礎
-
湯浅 俊郎
阪大産研
-
米田 健司
松下電子工業
-
毎田 修
阪大産研
-
小林 光
阪大産研:科技団crest
-
毎田 修
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
湯浅 俊郎
阪大産研:科技団crest
-
小林 光
阪大産研
-
毎田 修
阪大産研:科枝団CREST
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