28p-S-1 Si/SiO_2界面の界面準位と酸化膜の原子密度 : バイアス電圧印加時のXPS測定

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1999-03-15

著者

• 小林 光

  阪大産研:科技振・戦略基礎

• 西岡 泰城

  日本TI筑波研究開発セ

• 浅野 明

  阪大 産研

• 西岡 泰城

  TI筑波研究開発セ

• 小林 光

  阪大 産研

• 小林 光

  阪大産研:科技団crest

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