1p-YE-14 Si/SiO_2界面の界面準位のエネルギー分布の酸化膜形成温度依存性 : バイアス電圧印加時のXPS測定
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1998-03-10
著者
-
西岡 泰城
日本TI筑波研究開発セ
-
浅野 明
阪大 産研
-
西岡 泰城
TI筑波研究開発セ
-
浅野 明
阪大基礎工及び有機光セ
-
山下 良之
阪大基礎工及び有機光セ
-
久保田 智広
阪大基礎工及び有機光セ
-
中戸 義禮
阪大基礎工及び有機光セ
-
小林 光
阪大基礎工及び有機光セ
-
久保田 智広
東北大:理研
-
小林 光
阪大産研:科技団crest
-
久保田 智広
理研
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