28a-YR-12 Si/SiO_2界面の界面準位と酸化膜の原子密度及び界面のラフネスの関係

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1998-09-05

著者

• 西岡 泰城

  日本TI筑波研究開発セ

• 浅野 明

  阪大 産研

• 山下 良之

  東大物性研

• 小林 光

  科技団

• 浅野 明

  阪大産研

• 西岡 泰城

  TIつくば研究セ

• 小林 光

  阪大産研:科技団crest

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