2a-YF-3 低速電子線衝撃により生成した窒素プラズマを用いるシリコンオキシナイトライド薄膜の低温形成 : 光電子分光法による観測
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1998-03-10
著者
-
米田 健司
松下電子工業
-
米田 健司
松下電子ULSIプロ開セ
-
戸所 義博
松下電子企画部
-
戸所 義博
松下電子工業
-
溝黒 登志子
大阪大学産業科学研究所:大阪大学有機光工学研究センター
-
中戸 義禮
阪大基礎工及び有機光セ
-
小林 光
阪大基礎工及び有機光セ
-
溝黒 登志子
阪大基礎工及び有機光セ
-
戸所 義博
松下電器産業研究本部
-
小林 光
阪大産研:科技団crest
-
溝黒 登志子
産業技術総合研究所
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