選択的色素ドープによる高分子材料のパターン形成
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概要
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真空容器内に設置した高分子表面に色素をドープして色素侵入薄膜(または薄層)を形成できる「蒸気輸送法」を用い,フォトレジスト薄膜上に形成したマイクロパターンの特定部位のみに色素を選択的にドーピングして光吸収色または蛍光のパターンを薄膜表面に容易に形成する新手法を開発した.フォトレジスト薄膜の一部に紫外線照射を行った.露光部,未露光部がある薄膜に青色色素,ソルベント・ブルー59 (SB59),または赤色蛍光色素4-(ジシアノメチレン)-2-メチル-6-(4-ジメチルアミノスチリル) 4H-ピラン(DCM)蒸気をドープしたとき,色素はレジスト薄膜の未露光部分にのみ選択的にドープされ,露光部分にはまったくドープされなかった.これを利用することにより薄膜に吸収色,蛍光という機能のマイクロパターンを形成することができた.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-03-09
著者
-
平賀 隆
産業技術総合研究所
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
溝黒 登志子
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
溝黒 登志子
大阪大学産業科学研究所:大阪大学有機光工学研究センター
-
莫 暁亮
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
望月 博孝
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
平賀 隆
産業技術総合研 光技術研究部門
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所
-
溝黒 登志子
産業技術総合研究所
-
望月 博孝
産業技術総合研 電子光技術研究部門
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