摩擦転写法を用いたラインパターン電極の作製とその電界発光素子への応用
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概要
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- 2003-10-24
著者
-
上田 裕清
神戸大学大学院工学研究科
-
山下 正文
東京理科大学
-
八瀬 清志
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
近松 真之
独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門
-
三崎 雅裕
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
近松 真之
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
三崎 雅裕
神戸大学大学院自然科学研究科
-
山下 正文
東京理科大学 理工学研究科物理学専攻
-
上田 裕清
神戸大学 大学院工学研究応用化学専攻
-
山下 正文
東京理大
-
八瀬 清志
広島大学生物生産学部
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
三崎 雅裕
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
ハ瀬 清志
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
八瀬 清志
産業技術総合研 光技術研究部門
-
Ueda Yasuhiro
Materials And Devices Development Center Business Unit Sanyo Electric Co. Ltd.
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所
-
三崎 雅裕
神戸大学大学院工学研究科
-
上田 裕清
神戸大学大学院工学研究応用化学専攻
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