摩擦転写法を用いたラインパターン電極の作製とその電界発光素子への応用(思い通りに動く高分子・一般)
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概要
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サブμmの大きさの金属グレーティング(metal grating)は、アドレス電極や偏光フィルム等の応用展開が可能であり、通常、リソグラフィー等の微細加工技術を用いて作製されている。本研究では、そうした複雑な微細加工技術を一切用いず、ポリテトラフルオレン(PTFE)を基板に摩擦転写(friction-transfer)した際にできるサブμmオーダーの線状レリーフをテンプレートとして利用することで、サブμm金属グレーティング(異方的微細電極)を容易に作製した。原子間力顕微鏡(AFM)、走査型電子顕微鏡(SEM)により異方的微細電極の構造を確認し、抵抗測定、透過度等により電極としての特性を評価した。その結果、ガラス基板上に作製した一様な金属薄膜(Au)に比べ可視域で約3倍の透過率を示し、さらにITO(インジウム錫酸化物)電極に比べ、2桁高い導電率を示した。そこで、この異方的微細電極を半透明アノートとする有機EL素子を作製したところ、電極の微細な構造に起因する偏光発光が観測された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-10-17
著者
-
上田 裕清
神戸大学大学院工学研究科
-
八瀬 清志
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
近松 真之
独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門
-
三崎 雅裕
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
近松 真之
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
三崎 雅裕
神戸大学大学院自然科学研究科
-
山下 正文
中央第5*3東京理科大学理工学部
-
ハ瀬 清志
産業技術総合研究所光枝研究術部門
-
上田 裕清
神戸大学 大学院工学研究応用化学専攻
-
山下 正文
東京理科大学理工学部
-
八瀬 清志
広島大学生物生産学部
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
三崎 雅裕
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
ハ瀬 清志
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
Ueda Yasuhiro
Materials And Devices Development Center Business Unit Sanyo Electric Co. Ltd.
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所
-
三崎 雅裕
神戸大学大学院工学研究科
-
上田 裕清
神戸大学大学院工学研究応用化学専攻
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