共役系高分子/チタニア二層膜の偏光応答光電変換
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概要
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摩擦転写法によりチタニア表面に共役系高分子,ポリ(p-フェニレンビニレン)(PPV)およびポリ(3-ドデシルチオフェン)の配向層を形成した.高分子鎖は基板面内で摩擦の方向に平行に配列していた.この配向高分子/チタニアの偏光照射下での光電変換特性を評価した.光電流は分子鎖方向に平行な偏光の場合,垂直の場合に比べて増大した.PPVの場合,偏光吸収スペクトルと偏光アクションスペクトルとが一致することから偏光応答性は配向高分子の光吸収の二色性に由来することがわかった.これらのデバイスは非常に簡単な偏光検出器として使用することが可能である.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-10-18
著者
-
八瀬 清志
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
吉田 郵司
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
永松 秀一
産業技術総合研究所
-
永松 秀一
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
八瀬 清志
広島大学生物生産学部
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所 光技術研究部門
-
桑島 修一郎
京都大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー
-
ハ瀬 清志
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
八瀬 清志
産業技術総合研 光技術研究部門
-
吉田 郵司
産業技術総合研究所
-
谷垣 宣孝
産業技術総合研究所
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