TRXD-OMBD法による金属表面でのフラーレン蒸着膜のその場計測
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概要
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有機超薄膜の面内構造観測の為に、全反射X線回折法(TRXD)と有機分子線蒸着(OMBD)を組み合わせたTRXD-OMBD法を用いて、Ag配向基板上で形成した膜厚が数十ナノメーターのC60蒸着膜について作製直後真空中での"その場"計測を試みた。その結果、C60蒸着膜は基板のAg(220)面に相当するステップエッヂから異方的にエピタキシャル成長している事が明らかになった。またX線の臨界角近傍の入射角依存性を利用した深さ方向の解析から、その面内構造は膜厚の増加に伴ってC60(111)及び(220)から、表層では(311)へと変化している事が明らかになった。この手法は従来では得られなかった有機超薄膜の面内凝集構造を評価するばかりでなく、面内凝集構造の深さ方向の非破壊評価に十分効力を発揮する事が明らかになった。
- 1995-05-19
著者
-
八瀬 清志
物質工学工業技術研究所 高分子物理部
-
吉田 郵司
物質工学工業技術研究所 高分子物理部
-
谷垣 宣孝
物質工学工業技術研究所 高分子物理部
-
ハ瀬 清志
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
吉田 郵司
産業技術総合研究所
-
八瀬 清志
物質工学工業技術研究所
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