25pXD-10 低温Si(100)における吸着1,4-シクロヘキサジエンの前駆状態 : UPSによる研究(表面・界面ダイナミクス,領域9(表面・界面, 結晶成長))

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2005-03-04

著者

• 吉信 淳

  東大物性研

• 山下 良之

  物材機構

• 向井 孝三

  東大物性研

• 山下 良之

  東大物性研

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