15pXE-2 バイアス印加 XPS 法による極薄シリコンオキシナイトライド膜/シリコン界面の界面準位の観測(表面界面電子物性, 領域 9)
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2004-08-25
著者
-
小林 光
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
小林 光
大阪大学産業科学研究所
-
小林 光
阪大産研,科技振・戦略基礎
-
毎田 修
阪大産研
-
小林 琢也
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
田中 和樹
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
岡藤 麻子
阪大産研
-
岡藤 麻子
大阪大学大学院理学研究科生物科学専攻
-
毎田 修
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
小林 光
阪大産研
-
毎田 修
阪大産研:科枝団CREST
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