毎田 修 | 大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
小林 光
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
毎田 修
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
毎田 修
阪大産研:科枝団CREST
-
小林 光
大阪大学産業科学研究所
-
小林 光
阪大産研,科技振・戦略基礎
-
毎田 修
阪大産研
-
小林 光
阪大産研
-
湯浅 俊郎
阪大産研
-
高橋 昌男
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
小林 光
阪大産研:科技団crest
-
岡藤 麻子
大阪大学大学院理学研究科生物科学専攻
-
湯浅 俊郎
阪大産研:科技団crest
-
高橋 昌男
阪大産研
-
米田 健司
松下電子工業
-
小林 琢也
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
田中 和樹
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
小林 光
大阪大学産業科学研究所:crest-jst
-
小林 光
阪大産研及び科技振・戦略基礎
-
毎田 修
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻機能材料デバイス講座
-
岡藤 麻子
阪大産研
-
田中 和樹
阪大産研及び科技団・戦略基礎
-
小林 琢也
阪大産研及び科技団・戦略基礎
-
岡藤 麻子
阪大産研及び科技団・戦略基礎
-
毎田 修
阪大産研及び科技団・戦略基礎
-
小林 克稔
大阪大学産業科学研究所
-
Liu Yueh
阪大産研
-
井上 森雄
阪大産研
-
井上 森雄
阪大産研:科技団crest
-
Liu Yueh
阪大産研:科技団crest
-
高橋 昌男
大阪大学産業科学研究所:crest-jst
-
Takahashi Masao
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
著作論文
- シアン処理によるシリコン欠陥準位の消滅と太陽電池の高性能化 (特集 大阪大学産業科学研究所 マテリアルインテグレーション--材料・生体・情報の融合を目指して(2))
- 29pPSA-7 化学的手法で形成した極薄SiO_2膜の物性とリーク電流低減
- 27aXE-10 白金の触媒作用を用いたSi/SiO_2界面の平坦化とリーク電流の低減
- 15pXE-2 バイアス印加 XPS 法による極薄シリコンオキシナイトライド膜/シリコン界面の界面準位の観測(表面界面電子物性, 領域 9)
- 21aYD-1 バイアス XPS 法による極薄ゲート絶縁膜/シリコン界面の界面準位評価
- Al_2O_3微粒子を用いた光閉じ込め構造を有するa-Si太陽電池の作製
- 28pPSB-19 化学的手法による極薄 SiO_2/Si 構造の低温形成とリーク電流密度の低減
- 19pPSB-14 化学的に形成した極薄SiO_2/Si構造の原子密度と価電子帯