Takahashi Masao | The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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概要
関連著者
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Takahashi Masao
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
高橋 昌男
阪大産研
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高橋 昌男
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
小林 光
阪大産研:科技振・戦略基礎
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小林 光
大阪大学産業科学研究所
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小林 光
阪大産研,科技振・戦略基礎
-
小林 光
阪大産研
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岩佐 仁雄
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
小林 光
大阪大学産業科学研究所:crest-jst
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岩佐 仁雄
阪大産研
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森本 正太郎
大阪大谷大
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那須 三郎
阪大基礎工
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那須 三郎
JAEA・先端基礎
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川上 隆輝
日大理工
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川上 隆輝
日本大 量子科研
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劉 〓伶
阪大産研
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劉 ★〓伶
阪大産研:科技振・戦略基礎
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那須 三郎
大阪大学基礎工学部
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那須 三郎
大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻物性物理科学分野
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那須 三郎
京大化研
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東 裕子
阪大産研
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那須 三郎
大阪大 大学院
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那須 三郎
大阪大学
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東 裕子
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
Sato N
Tohoku Univ.
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TAKAHASHI Masao
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
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Morimoto Setsu
Department Of Physics Fculty Of Science Ochanomizu University
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斎藤 直
大阪大RIセンター
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松本 健俊
阪大産研
-
成田 比呂晃
阪大産研
-
高橋 昌男
阪大産研及び科技振・戦略基礎
-
劉 ★〓伶
阪大産研及び科技振・戦略基礎
-
中村 唯生
阪大産研及び科技振・戦略基礎
-
岩佐 仁雄
阪大産研及び科技振・戦略基礎
-
小林 光
阪大産研及び科技振・戦略基礎
-
斎藤 直
阪大RIセンター
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小林 裕和
日大理工
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森本 正太郎
阪大基礎工
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松本 健俊
大阪大学産業科学研究所
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劉 〓伶
阪大産研:科技振・戦略基礎
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伊藤 麻美
日大院理工
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成田 比呂晃
大阪大学産業科学研究所:crest-jst
-
斎藤 直
阪大RIセ
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マダニ モハマド
阪大産研
-
柳瀬 隆
阪大産研
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寺川 澄雄
阪大産研
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田中 祐士
阪大産研
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高橋 昌男
阪大産研,科技振・戦略基礎
-
任 星淳
阪大産研,科技振・戦略基礎
-
岩佐 仁雄
阪大産研,科技振・戦略基礎
-
藤原 直澄
阪大産研及び科技振・戦略基礎
-
深山 権一
阪大産研及び科技振・戦略基礎
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毎田 修
阪大産研
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石川 貴明
日大理工
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寺川 澄雄
阪大産研:crest-jst
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SAKATA Yoshiteru
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
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斉藤 直
阪大RIセンター
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Yagi Naoto
SPring-8 JASRI
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IMAHORI Hiroshi
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
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Nasu Saburo
Department Of Material Physics Faculty Of Engineering Science Osaka University
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Noguchi S
Department Of Physics And Electronics Osaka Prefecture University
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Okada T
Department Of Chemistry Graduate School Of Engineering Science And Research Center For Materials Sci
-
任 星淳
阪大産研:科技振・戦略基礎
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Komiya Satoshi
Spring-8/jasri
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Azuma Takayuki
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
斉藤 直
阪大riセ
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AWAJI Naoki
Fujitsu Laboratories Ltd.
-
HASEGAWA Masato
Department of Molecular Neurobiology, Tokyo Institute of Psychiatry, Tokyo Metropolitan Organization
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Tamura Masafumi
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Sakata Y
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Sakata Yoshiteru
The Institute Of Science And Industrial Research Osaka University
-
OZAWA Shinichiro
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
-
USHIDA Kiminori
The Institute of Physical and Chemical Research (RIKEN)
-
AJAVAKOM Anawat
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
-
AKIYAMA Tsuyoshi
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
-
TANIGUCHI Seiji
Department of Chemistry, Faculty of Engineering Science and Research Center for Materials Science at
-
OKADA Tadashi
Department of Chemistry, Faculty of Engineering Science and Research Center for Materials Science at
-
Hasegawa M
Department Of Applied Chemistry Faculty Of Science Science University Of Tokyo
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Liu Yueh
阪大産研
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井上 森雄
阪大産研
-
伊藤 麻美
日大理工
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Ozaki Shinji
Matsushita Technoresearch Inc.
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Ushida Kiminori
The Institute Of Physical And Chemical Research
-
Ajawakom Anawat
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Imahori Hiroshi
Department Of Material And Life Science Graduate School Of Engineering Osaka University Crest Japan
-
Imahori Hiroshi
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka Unibersity
-
Ozawa Shinichiro
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Kikkawa Shinichi
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Akiyama Tsuyoshi
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
井上 森雄
阪大産研:科技団crest
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Hasegawa M
Aoyama Gakuin Univ. Tokyo
-
Liu Yueh
阪大産研:科技団crest
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毎田 修
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
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Maida Osamu
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Hasegawa Masato
Department Of Molecular Neurobiology Tokyo Institute Of Psychiatry
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Nomura Kenji
Fujitsu Laboratories Ltd.
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Inoue Katsuaki
Spring-8 Japan Synchrotron Radiation Research Institute (jasri)
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Okada T
Department Of Bio-recycling Faculty Of Engineering Hiroshima Kokusai Gakuin University
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Takahashi Mamoru
Corporate Research & Development Center Toshiba Corporation
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DOI Shuichi
Fujitsu Laboratories LTD.
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TAKEMURA Momoko
Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation
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KAMIMUTA Yuichi
Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation
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TAKAHASHI Masao
Osaka University
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Iihara Junji
Sumitomo Electric Industries Ltd.
-
Miyatake Kenichiro
Sumitomo Electric Industries Ltd.
-
Imahori H
Department Of Material And Life Science Graduate School Of Engineering Osaka University Crest Japan
-
Yamazaki Noboru
Sumitomo Electric Industries Ltd.
-
Akiyama T
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
マダニ モハマド
阪大産研:科技振・戦略基礎
-
Taniguchi Seiji
Department Of Chemistry Faculty Of Engineering Science And Research Center For Materials Science At
-
Taniguchi Seiji
Department Of Chemistry Faculty Of Engineering Science And Research Center For Extreme Materials Osa
-
Okada T
Department Of Electrical And Electronic Engineering Toyohashi University Of Technology
-
KANAMARU Fumikazu
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
-
ASANO Akira
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
-
KOBAYASHI Hikaru
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
-
高橋 昌男
大阪大学 産業科学研究所
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Kanamaru F
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Kanamaru Fumikazu
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Okada Tadashi
Department Of Chemistry Graduate School Of Engineering Science And Research Center For Materials Sci
-
HASHIMOTO Yasuhiro
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
-
Asano Akira
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Akiyama T
Gakushuin Univ. Tokyo
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柳瀬 隆
阪大産研:科技振戦略基礎
-
田中 祐士
阪大産研:crest-jst
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Hashimoto Yasuhiro
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
那須 三郎
Jaea先端基礎
-
Nasu Saburo
Division Of Materials Physics Department Of Physical Science Graduate School Of Engineering Science
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Kobayashi Hikaru
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Iihara Junji
Sumitomo Electric Industries, Ltd., 1-1-1 Koya-kita, Itami, Hyogo 664-0016, Japan
-
王 カイ
阪大産研
-
Awaji Naoki
Fujitsu Laboratories LTD., 10-1 Morinosato-wakamiya, Atsugi 243-0197, Japan
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Komiya Satoshi
SPring-8/JASRI, Mikazuki, Hyogo 679-5198, Japan
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Hasegawa Masato
Department of Chemistry, Faculty of Engineering Science and Research Center for Materials Science at Extreme Conditions, Osaka University
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Takemura Momoko
Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation, 1 Komukaitoshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki 212-8582, Japan
-
Doi Shuichi
Fujitsu Laboratories LTD., 10-1 Morinosato-wakamiya, Atsugi 243-0197, Japan
-
Miyatake Kenichiro
Sumitomo Electric Industries, Ltd., 1 Taya-cho, Sakae-ku, Yokohama 244-0844, Japan
-
Ozaki Shinji
Matsushita Technoresearch, Inc., 3-1-1 Yakumonakamachi, Moriguchi 570-8501, Japan
-
Nasu Saburo
Faculty of Engineering Science,Osaka University
-
Yagi Naoto
SPring-8/JASRI, Mikazuki, Hyogo 679-5198, Japan
-
Inoue Katsuaki
SPring-8/JASRI, Mikazuki, Hyogo 679-5198, Japan
-
Yamazaki Noboru
Sumitomo Electric Industries, Ltd., 1-1-3 Shimaya, Konohana-ku, Osaka 554-0024, Japan
-
Kamimuta Yuichi
Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation, 1 Komukaitoshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki 212-8582, Japan
-
Nomura Kenji
Fujitsu Laboratories LTD., 10-1 Morinosato-wakamiya, Atsugi 243-0197, Japan
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毎田 修
阪大産研:科枝団CREST
著作論文
- 23aGP-12 HCN水溶液によるSiO_2表面の銅除去 : 極微量汚染銅の化学結合状態(23aGP 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 28aYG-12 HCN水溶液によるSiO_2表面の吸着Ni除去機構(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 23aXB-7 HCN水溶液による4H-SiC表面上の吸着金属の完全除去(23aXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 20pXA-4 新規の硝酸法によるSiO_2/Si構造の低温形成(20pXA 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 24aTD-13 HCN溶液によるシリコン表面上の吸着銅の完全除去と表面形態制御(表面界面ダイナミクス,表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 27aYB-4 硝酸酸化法による低温生成SiO_2膜の微構造(27aYB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22pYE-7 シアン化物イオンによるSi表面の金属脱離(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 24pWB-6 シアン化物溶液中での電気化学酸化法によるシリコンオキシナイトライド膜の低温創製(表面・界面電子物性,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 15pXG-6 非エッチングシリコン洗浄液を用いたシリコン表面の重金属除去 (2) : 銅洗浄機構(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- 15pXG-5 非エッチングシリコン洗浄液を用いたシリコン表面の重金属除去 (1) : 銅とニッケル(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- 21pPSA-51 高圧下におけるγ'-Fe_4Nのメスバウアー分光測定(21pPSA 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 22aPS-34 γ'-Fe_4Nの高圧下メスバウアー分光測定(領域3ポスターセッション(f電子,遍歴,化合物,酸化物,磁性一般,表面・界面),領域3,磁性,磁気共鳴)
- 23aWS-11 HCN水溶液による半導体表面清浄化 : 10^原子/cm^2オーダの銅の化学状態解析(23aWS 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))
- Organic Photoelectrochemical Cell Mimicking Photoinduced Multistep Electron Transfer in Photosynthesis: Interfacial Structure and Photoelectrochemical Properties of Self-Assembled Monolayers of Porphyrin-Linked Fullerenes on Good Electrodes
- 28pPSB-19 化学的手法による極薄 SiO_2/Si 構造の低温形成とリーク電流密度の低減
- 18pTB-7 高圧下メスバウアー分光測定を用いたγ'-Fe_4Nの磁気的性質(18pTB 磁気共鳴一般,実験技術開発,磁性一般,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 12pWB-6 γ'-Fe_4N の高圧下メスバウアー分光(化合物磁性, 磁性半導体・絶縁体, 実験技術開発, 磁気共鳴一般, 磁性一般, 領域 3)
- Ultrathin Silicon Oxynitride Layers with a Low Leakage Current Density Formed by Plasma Nitridation Using Low Energy Electron Impact and Chemical Oxidation
- 欠陥終端化機能を有する半導体表面洗浄法による半導体デバイスの高性能化
- Syntheses of Rare Earth Dioxymonocyanamides (Ln_2O_2CN_2, Ln=La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd)
- 24pCC-11 シアン化処理法を用いた欠陥除去と洗浄による太陽電池用シリコン基板のライタイムの向上(24pCC 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- Detection Limits of Trace Elements for Wavelength Dispersive Total X-Ray Fluorescence under High Flux Synchrotron Radiation