東 裕子 | 阪大産研

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概要

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関連著者

• 小林 光

  阪大産研:科技振・戦略基礎

• 小林 光

  大阪大学産業科学研究所

• 高橋 昌男

  阪大産研

• 東 裕子

  阪大産研

• 岩佐 仁雄

  阪大産研

• 小林 光

  阪大産研,科技振・戦略基礎

• 高橋 昌男

  阪大産研:科技振・戦略基礎

• 東 裕子

  阪大産研:科技振・戦略基礎

• 岩佐 仁雄

  阪大産研:科技振・戦略基礎

• 小林 光

  大阪大学産業科学研究所:crest-jst

• Takahashi Masao

  The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University

• 小林 光

  阪大産研

• 劉 〓伶

  阪大産研

• 劉 ★〓伶

  阪大産研:科技振・戦略基礎

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著作論文

• 23aGP-12 HCN水溶液によるSiO_2表面の銅除去 : 極微量汚染銅の化学結合状態(23aGP 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 28aYG-12 HCN水溶液によるSiO_2表面の吸着Ni除去機構(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 23aWS-11 HCN水溶液による半導体表面清浄化 : 10^原子/cm^2オーダの銅の化学状態解析(23aWS 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))

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