成田 比呂晃 | 大阪大学産業科学研究所:crest-jst

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概要

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関連著者

• 小林 光

  阪大産研:科技振・戦略基礎

• 小林 光

  大阪大学産業科学研究所

• 高橋 昌男

  阪大産研:科技振・戦略基礎

• 小林 光

  大阪大学産業科学研究所:crest-jst

• 成田 比呂晃

  大阪大学産業科学研究所:crest-jst

• 高橋 昌男

  阪大産研

• 劉 〓伶

  阪大産研

• 成田 比呂晃

  阪大産研

• 小林 光

  阪大産研,科技振・戦略基礎

• 劉 〓伶

  阪大産研:科技振・戦略基礎

• Takahashi Masao

  The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University

• 小林 光

  阪大産研

• 東 裕子

  阪大産研:科技振・戦略基礎

• 高橋 昌男

  大阪大学産業科学研究所

• 東 裕子

  大阪大学産業科学研究所

• 成田 比呂晃

  大阪大学産業科学研究所

• 岩佐 仁雄

  大阪大学産業科学研究所

• 小林 光

  阪大産研:科技団crest

• 岩佐 仁雄

  阪大産研:科技振・戦略基礎

• 高橋 昌男

  大阪大学産業科学研究所:crest-jst

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著作論文

• 24aTD-13 HCN溶液によるシリコン表面上の吸着銅の完全除去と表面形態制御(表面界面ダイナミクス,表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 22pYE-7 シアン化物イオンによるSi表面の金属脱離(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 欠陥消滅型半導体洗浄液によるシリコン材料表面の汚染銅除去(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)

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