Target for a Pb(Zr,Ti)O_3 Thin Film Deposited at a Low Temperature Using a Quasi-Metallic Mode of Reactive Sputtering
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1999-12-15
著者
-
笹木 敬司
北海道大学電子科学研究所
-
Kim J‐d
Department Of Electrical And Computer Engineering Kanazawa University
-
Kim Je-deok
Department Of Semiconductor Engineering Cheong-ju University
-
HATA Tomonobu
Department of Electrical and Computer Engineering, Faculty of Technology, Kanazawa University
-
Sasaki Kimihiro
Department Of Electrical And Computer Engineering Faculty Of Engineering Kanazawa University
-
Hata Toshio
Electrotechnical Laboratory:tokai University
-
KAWAGOE Shinya
Department of Electrical and Computer Engineering, Kanazawa University
-
Hata T
Kanazawa Univ. Kanazawa Jpn
-
Hata Tomonobu
Department Of Electrical And Computer Engineering Faculty Of Engineering Kanazawa University
-
Kim Je-deok
Department Of Electrical And Computer Engineering Kanazawa University
-
Kawagoe Shinya
Department Of Electrical And Computer Engineering Kanazawa University
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