パルス電圧を用いた電気化学堆積法によるSnS薄膜の作製とその評価(<小特集>III族窒化物研究の最前線)

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概要

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• 低コストでの太陽電池用半導体薄膜の作製を目指して、安価で簡単な装置を用いる電気化学堆積法(electrochemica1 deposition;ECD法)を用いて硫化スズ(SnS)薄膜の作製と評価を行った。印加電圧にはパルス電圧を用い、試料を走査型電子顕微鏡、オージェ電子分光法、X線回折法を用いて評価した。基板への密着性、表面モホロジー、結晶性を考慮し、パルス電圧条件の最適化を図った。さらに、基板上にメサ構造を作製し、その電流電圧(I-V)特性の温度依存性より、半導体的特性を確認した。

• 2002-05-17

著者

• 市村 正也

  名古屋工業大学機能工学専攻

• 佐藤 直也

  名古屋工業大学

• 荒井 英輔

  名古屋工業大学大学院工学研究科

• 山崎 芳文

  富士ゼロックス株式会社

• 荒井 英輔

  名古屋工業大学

• 市村 正也

  名古屋工業大学、機能工学専攻

• 市村 正也

  名古屋工業大学

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