3J02 バッファー層の最適化による高角形比 (Mr/Ms) エピタキシャル (Ni, Zn)Fe_2O_4 薄膜の作製

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概要

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• 日本セラミックス協会の論文
• 2002-09-22

著者

• 水谷 惟恭

  国立東京高等工業専門学校

• 篠崎 和夫

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 脇谷 尚樹

  東工大院

• 篠崎 和夫

  東工大院

• 水谷 惟恭

  東工大院

• 脇谷 尚樹

  東工大院工

• 水谷 惟恭

  東工大院工

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