3L19 π種々の希土類元素を添加したジルコニアゲート絶縁膜の界面構造の高分解能 TEM 観察
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概要
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- 日本セラミックス協会の論文
- 2002-09-22
著者
-
水谷 惟恭
東工大大学院理工学研究科
-
水谷 惟恭
国立東京高等工業専門学校
-
篠崎 和夫
東京工業大学大学院理工学研究科
-
木口 賢紀
東京工業大学総合分析支援センター
-
木口 賢紀
東工大
-
脇谷 尚樹
東工大
-
篠崎 和夫
東工大
-
脇谷 尚樹
東工大院工
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