木口 賢紀 | 東京工業大学総合分析支援センター

スポンサーリンク

概要

• 木口 賢紀の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 東京工業大学総合分析支援センターの論文著者

関連著者

• 木口 賢紀

  東京工業大学総合分析支援センター

• 篠崎 和夫

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 篠崎 和夫

  東京工業大学工学部無機材料工学科

• 水谷 惟恭

  国立東京高等工業専門学校

• 篠崎 和夫

  東京工大 大学院理工学研究科

• 篠崎 和夫

  東工大院工

• 水谷 惟恭

  東京工業大学

• 脇谷 尚樹

  東京工業大学工学部無機材料工学科

• 脇谷 尚樹

  東京工大 大学院理工学研究科

• Wakiya Naoki

  Graduate School Of Sci. And Technol. Shizuoka Univ.

• Wakiya Naoki

  Department Of Materials Science And Chemical Engineering Shizuoka University

• 佐伯 淳

  東京工業大学総合分析支援センターx線分析室

• 佐伯 淳

  東京工業大学工学部無機材料工学科

• 木口 賢紀

  東工大

• 脇谷 尚樹

  東工大院工

• 水谷 惟恭

  東工大大学院理工学研究科

• 篠崎 和夫

  東工大

• 寺山 清志

  富山大学大学院理工学研究部(工学)

• 寺山 清志

  富山大学工学部

• 今野 豊彦

  阪府大院工

• 篠崎 和夫

  東工大院

• 寺山 清志

  富山大 工

• 石沢 伸夫

  名古屋工業大学セラミックス基盤工学研究センター

• 水谷 惟恭

  東工大工

• 水谷 惟恭

  東京工業高等専門学校

• 脇谷 尚樹

  東工大

• 佐伯 淳

  東工大工

• 舟窪 浩

  東京工大 工

• 今野 豊彦

  東北大学金属材料研究所

• 石澤 伸夫

  東工大工材研

• 脇谷 尚樹

  静岡大学 工学部 物質工学科

• 木口 賢紀

  東北大金研

• 今野 豊彦

  東北大金研

• 脇谷 尚樹

  静岡大工

• 水谷 惟恭

  東工大院工

• 石澤 伸夫

  東工大応セラ研

• 木口 賢紀

  東北大学金属材料研究所

• 脇谷 尚樹

  静岡大学工学部

• 石澤 伸夫

  東京工業大学工業材料研究所

• 篠[ザキ] 和夫

  東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻

• 内田 寛

  東京工業大学工学部無機材料工学科

• 木口 賢紀

  東工大工

• Chun Sung

  東工大工

• 舟窪 浩

  東工大工

• 篠崎 和夫

  東工大工

• 漆原 亘

  神戸製鋼所(株)材料研究所

• 杉浦 充典

  東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻

• 永野 大介

  東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻

• 横村 伸緒

  東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻

• 伊藤 拓義

  東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻

• 石沢 伸夫

  名古屋工大 セラミックス基盤工学研究セ

• 脇谷 尚樹

  静岡大学 工学部

もっと見る 閉じる

著作論文

• Y_2O_3-Ta_2O_5混合ドープZrO_2ゲート絶縁膜界面の高分解能観察
• 高分解能分析電子顕微鏡による二酸化セリウム/イットリア安定化ジルコニア/シリコンヘテロ界面構造の原子スケール構造評価(原子をみる)
• YSZシード層によるSi(001)基板上へのCeO_2薄膜のエピタキシャル成長
• バッファーレイヤーのセラミック薄膜への適用
• 3L19 π種々の希土類元素を添加したジルコニアゲート絶縁膜の界面構造の高分解能 TEM 観察
• S0405-1-4 収差補正電子顕微鏡によるセラミック薄膜の界面構造解析(セラミックス/セラミックス基礎合材料I)
• 収差補正TEMによるZrO_2超薄膜における構造遷移層の解明
• 1A07 イットリア添加ジルコニア薄膜の電気伝導性に及ぼす柱状組織の影響
• 非対称X線回折によるエピタキシャル薄膜の残留応力の評価手法
• 強誘電性・強磁性マルチフェロイック物質の現象と展望 (特集 エレクトロニクセラミックス薄膜)
• MOCVD法により合成したバリスター特性を有するNb,Bi同時添加SrTiO_3薄膜の成長挙動(セラミックスインテグレーション)
• 3A15 TEM, XRD による PMN/LSCO/CeO_2/YSZ/Si 薄膜のインテグレート構造と誘電率の膜厚依存性
• 3 mol%Y_2O_3-ZrO_2の強弾性ドメインスイッチングに及ぼす相分離の影響
• セリア部分安定化ジルコニアの強弾性ドメインスイッチングの臨界応力に及ぼす軸比の影響
• ジルコニアの強弾性ドメインスイッチングに及ぼす希土類イオン半径の影響
• 正方晶ジルコニア擬単結晶の強弾性ドメインスイッチングと酸素欠陥の関係
• ジルコニア結晶の強弾性ドメインスイッチングに及ぼす応力,温度の影響
• ZrO2と強弾性ドメインスイッチング
• シード層の導入によるPZT,PT薄膜の結晶性/配向性の制御(セラミックスインテグレーション)
• YSZ/SiO_x/(001)Si薄膜のエピタキシャル成長における極薄SiO_x層の役割(セラミックスインテグレーション)
• PZT薄膜の90°ドメイン構造のTEM観察と強誘電特性
• 3D03 加熱 TEM 観察による PZT 薄膜の結晶成長に及ぼすシード層の効果の解明
• 1D23 加熱 TEM 観察による YSZ/SiOx/Si 薄膜における SiOx 層の還元過程の解明
• 3D04 CeO_2/ZrO_2/Si 多層膜界面構造の HRTEM 観察

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク