加圧処理後のSH基量変化がアクトミオシンの加熱ゲル形成に与える影響

概要

論文の詳細を見る
加圧処理後のアクトミオシンの加熱ゲル形成に与えるSH基量の影響を知るため,塩濃度(0.1〜1.0M KCl),加圧量(50〜150MPa),加圧時間(5〜120min)を変えてSH基量の測定を行なった.また,SH基ブロック剤であるN-Ethylmaleimide (NEM,2〜16mM)の添加の影響,Sephacryl S-500による加圧処理後のアクトミオシンの分子量変化についても検討した.その結果,加圧処理を行なったアクトミオシンは,無加圧のものよりも(0.1〜1,0M)KCl濃度において常に高いSH基量を示し,特に,加圧区の0.1M KClにおいてSH基量は急激に増加した.加圧量の影響は,0.25M KClにおいては100MPaから,0.70M KClでは50MPaからSH基量が増加していた.加圧処理時間の影響は,0.25M KCl,0.70M KCl共に,150MPa,10分の加圧でSE基量はほぼ最高値に達し,それ以上の加圧を行なってもほとんどSH基量の増加はみられなかった.NEM添加試験においては,0.25M KClでは4mMまでのNEM添加でワークダン値は減少し,明かな加熱ゲル形成の阻害が認められた.しかし,0.70M KClにおいては16mM NEMを添加しても加圧区,無加圧区共にワークダン値にはほとんど変化がみられず,加熱ゲル形成へのNEMの阻害は高塩濃度側では認められなかった.また,Sephacryl S-500によるゲル〓過では,加圧処理を行なったアクトミオシンの見かけ上の分子量は約270kダルトン無加圧のものより小さくなっていた.
社団法人日本畜産学会の論文

加圧処理後のSH基量変化がアクトミオシンの加熱ゲル形成に与える影響

スポンサーリンク

概要

著者

関連論文

スポンサーリンク