A New Technology for Negative Ion Detection and the Rapid Electron Cooling in a Pulsed High-Density Etching Plasma
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1995-10-15
著者
-
Nakamura Keiji
Department of Electrical Engineering, Nagoya University
-
Sugai Hideo
Department of Electrical Engineering, Nagoya University
-
Ahn Tae
On Leave From Semiconductor R&d Center Samsung Electronics Co. Ltd.
-
Sugai Hideo
Department Of Electrical Engineering School Of Engineering Nagoya Univeristy
-
Nakamura Keiji
Department Of Electrical Electronics And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osak
-
Nakamura K
Department Of Electrical Engineering School Of Engineering Nagoya University
-
Nakamura Keiji
Department Of Electrical Engineering Nagoya University
-
AHN Tae
Department of Electrical Engineering, Nagoya University
-
Sugai Hideo
Department O Electrical Engineering Nagoya University
-
Nakamura Keiji
Department Of Biology And Geosciences Graduate School Of Science Osaka City University:present Addre
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