Pb(Zr, Ti)O_3薄膜成長における気相及びターゲットからの酸素導入の検討
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概要
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準金属モード反応性スパッタリング法でZrTi合金円盤上にPbOペレットを置いた複合ターゲットを用いてPb(Zr, Ti)O_3薄膜の高速低温成長を実現した。このPZT薄膜の堆積機構について調べた結果、酸素の供給源は導入ガスではなくPbOからであることを突き止めた。さらに通常Pbの欠損がペロブスカイトPZT成長を阻害していると理解されているが、供給酸素の量も重要なパラメータであることが分かった。
- 2000-03-08
著者
-
佐々木 公洋
金沢大学工学部
-
川越 進也
金沢大学大学院自然科学研究科
-
金 済徳
金沢大学大学院自然科学研究科
-
畑 朋延
金沢大学工学部電気電子システム工学科
-
畑 朋延
独立行政法人科学技術振興機構 研究成果活用プラザ石川
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畑 朋延
金沢大学工学部
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金 済徳
金沢大学工学部
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川越 進也
金沢大学工学部
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佐々木 公洋
金沢大学自然科学研究科
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