Pb(Zr, Ti)O_3薄膜成長における気相及びターゲットからの酸素導入の検討
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概要
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金属(ZrTi)-酸化物(PbO)複合ターゲットを用い, 反応性スパッタ法で強誘電体Pb(Zr, Ti)O_3[PZT]薄膜の高速かつ低温作製を行っている.金属ターゲットと酸化物ターゲット間での相互干渉が生じ, 作製される膜に影響を及ぼしている.酸化物ターゲットの面積比を大きくすると, 金属と酸化物が同時にスパッタされるスパッタモード(準金属モードと称する)が現れる.準金属モードでのPZT薄膜の堆積機構について調べた結果, 酸素の供給源は導入ガスではなくPbOからであることを突き止めた.更に成長PZT膜表面に十分な酸素が供給されないとPbの再蒸発が生じ, Pbが欠乏する.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-11-25
著者
-
佐々木 公洋
金沢大学大学院 自然科学研究科
-
畑 朋延
金沢大学大学院 自然科学研究科
-
金 済徳
金沢大学大学院自然科学研究科
-
畑 朋延
独立行政法人科学技術振興機構 研究成果活用プラザ石川
-
佐々木 公洋
金沢大学自然科学研究科
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