金属モード反応性スパッタリングで複合、粉末、混合物ターゲットを用いて作製したPZT薄膜の特性
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概要
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強誘電体PZT薄膜を反応性スパッタリングの金属モードで(ZrTi+PbO)の複合ターゲットを用いて450℃という低温で、8nm/minという高速で推積に成功した。Pb:Ti:Zr=1:0.5:0.5となるように粉末ターゲットでも複合ターゲットと同様に450℃という低温でペロブスカイトPZT薄膜の作製に成功した。このPZT薄膜の推積機構について実験的に調べた結果、酸素の供給源はガスでなくPbOからであった。(ZrO_2+Pb+Ti)混合物ターゲットの場合は450℃という低温でペロプスカイトPZT薄膜の作製はできなかった。これからPbOとZrO_2の生成熱と結合エネルギーに起因するのがわかった。
- 1999-07-23
著者
-
佐々木 公洋
金沢大学工学部
-
川越 進也
金沢大学大学院自然科学研究科
-
金 済徳
金沢大学大学院自然科学研究科
-
畑 朋延
金沢大学工学部電気電子システム工学科
-
畑 朋延
金沢大学工学部
-
金 済徳
金沢大学工学部
-
川越 進也
金沢大学工学部
-
佐々木 公洋
金沢大学自然科学研究科
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