畑 朋延 | 金沢大学工学部電気電子システム工学科
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概要
関連著者
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畑 朋延
金沢大学工学部電気電子システム工学科
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畑 朋延
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金沢大学工学部電気・情報工学科
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金沢大学工学部
著作論文
- Pb(Zr, Ti)O_3薄膜の低温・高速堆積用の固体酸素供給源による反応性スパッタ法の提案
- (99)MOTコース企画・実施例(セッション29 MOT教育(技術経営・技術政策教育)I)
- 49 GPAの導入と成績評価の厳格化(教育評価・自己点検・評価システムII,第13セッション)
- 卒業生による教育目標のアウトカムズ評価法
- F-2 超音波打ち込みによる非晶質As_2S_3の特性変化(一般講演)
- ECRプラズマCVDによるSi薄膜の低温選択エピタキシャル成長
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- G-2 透明トランスジューサ法PASおよび光・熱偏向分光法(PDS)による表面状態の検討(光音響)
- P-6 透明トランスジューサを用いたCdSの光音響分光測定(ポスター・セッション)
- D-10 トランスジューサ法によるCdSの光音響分光測定(音波物性II)
- PA23 プローブ光の強度分布を考慮した差動型PDSの検討(ポスターセッションA)
- PB6 差動型光熱偏向分光法による半導体の光学的・熱的評価(ポスターセッション概要講演)
- 透明トランスジューサ法PASによる半導体熱物性の評価
- PA24 透明トランスジューサ法PASにおける焦電効果による信号の解析(ポスターセッションA)
- PB5 透明トランスジューサ法PASの光音響信号における圧電と焦電効果の影響(ポスターセッション概要講演)
- 2PJ-5 透明トランスジューサ法PASにおける光音響信号の理論解析(光音響,ポスターセッション(概要講演))
- 1-PG-5 透明トランスジューサ法PASにおける積層構造試料の信号発生機構(1-P.ポスターセッション(概要講演))
- D-17 透明トランスジューサを用いた光音響分光法による多層構造・深さ方向の評価(ポスターセッション)
- 反応性スパッタリングによる酸化物薄膜の作製
- B-3 透明トランスジューサを用いた光音響分光法(PAS)によるイオン打ち込みしたSiの評価(ポスターセッション)
- C-3 光熱偏向分光法(PDS)によるIII-V族半導体の評価(光音響分光法)
- P-30 光・熱偏向分光法によるSi薄膜の光吸収係数の測定(ポスター・セッション)
- 情報表示用DC型カラープラズマディスプレイの寿命特性の改善
- PDP用カソード(La_Sr_CoO_3)の放電集中の低減と寿命特性の改善
- Pb(Zr, Ti)O_3薄膜成長における気相及びターゲットからの酸素導入の検討
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- ネオンオレンジDC型プラズマディスプレイの低消費電力化
- 金属モード反応性スパッタリングで複合、粉末、混合物ターゲットを用いて作製したPZT薄膜の特性
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- 金属モードスパッタリングによるエピタキシャル高・強誘電体薄膜の作製
- IBSによるSiGeエピタキシャル成長の基礎特性
- 反応性スパッタリングの新しい展開 : ターゲット構造からのアプローチ