細線構造を有する分布反射型(DR)レーザ(<小特集テーマ>量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎から応用,その他一般)
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概要
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我々はこれまでに活性層を直接加工した活性層分離型DFBレーザを作製し、しきい値電流0.7mA,片端面当たりの微分量子効率23%を得ている。今回は更なる特性向上のため、この活性層分離型DFBレーザの作製技術を応用して新しい分布反射型レーザを提案する。活性領域と受動DBR領域を持ち、片側に出力を寄せることで効率の増加をねらった。受動DBR領域は狭細線構造を導入することで導波路損失を低減させ、かつ高い反射率を得るために細線を多数列設けた構造とした。この構造で理論解析を行い、DRレーザ特有の特性、すなわち従来のDFB構造に比べてしきい値電流を1/2程度まで低減して片端面当たりの効率を増加させることが可能であることを明らかにした。
- 2002-05-10
著者
-
八木 英樹
住友電気工業(株)伝送デバイス研究所
-
大平 和哉
(株)東芝研究開発センター
-
荒井 滋久
東京工業大学
-
荒井 滋久
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター:科学技術振興機構
-
荒井 滋久
東京工業大学 理工学研究科 電気電子工学専攻
-
布谷 伸浩
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
-
田村 茂雄
東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター
-
八木 英樹
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
-
田村 茂雄
東京工業大学 量子ナノエレクトロニクス研究センター
-
大平 和哉
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
-
尾野村 章弘
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
-
八木 英樹
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター:独立行政法人科学技術振興機構
-
八木 英樹
東京工業大学 量子ナノエレクトロニクス研究センター
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