田村 茂雄 | 東京工業大学 量子ナノエレクトロニクス研究センター
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概要
関連著者
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荒井 滋久
東京工業大学
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荒井 滋久
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター:科学技術振興機構
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田村 茂雄
東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター
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田村 茂雄
東京工業大学 量子ナノエレクトロニクス研究センター
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荒井 滋久
東京工業大学 理工学研究科 電気電子工学専攻
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布谷 伸浩
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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小島 隆
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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八木 英樹
住友電気工業(株)伝送デバイス研究所
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田中 英
東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター
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八木 英樹
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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村主 賢悟
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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村主 賢悟
古河電気工業株式会社:光産業技術振興協会
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田中 英
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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八木 英樹
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター:独立行政法人科学技術振興機構
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八木 英樹
東京工業大学 量子ナノエレクトロニクス研究センター
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大平 和哉
(株)東芝研究開発センター
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安本 英雄
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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阪本 真一
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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岡本 健志
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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山崎 達也
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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大平 和哉
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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岡本 健志
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
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中谷 洋幸
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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ラジュ モティ
東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター
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ウィドマン ヨルク
東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター
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海老原 幸司
東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター
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松井 研輔
日立電線(株)アドバンス技術研究所
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松井 研輔
東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター
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緑川 英樹
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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ハク アニスル
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター:jst-crest
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岡本 健志
NECナノエレクトロニクス研究所
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中村 円香
東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター
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佐野 琢哉
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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内藤 秀幸
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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丸山 武男
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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中村 円香
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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佐野 琢哉
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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佐野 琢哉
東京工業大学大学院理工学研究科物理学専攻
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丸山 武男
金沢大学大学院自然科学研究科
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岡本 健志
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
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丸山 武男
金沢大学理工研究域
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小野寺 祐一
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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ラジュ モティ・マダン
東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター
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村山 智則
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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広瀬 誠人
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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海老原 幸司
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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荒井 滋久
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター:東京工業大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻
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田村 宗久
東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター
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勘定 寛
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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金 孝艇
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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賈 学英
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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阪 義和
東京工業大学工学部
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田村 宗久
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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尾野村 章弘
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
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阪 義和
東京工業大学量子効果エレクトロニクス研究センター
著作論文
- GH_4/H_2ドライエッチングと埋め込み再成長によるGaInAs/PInP多層量子細線レーザ
- 凹凸形状回折格子を用いた半導体薄膜BH-DFBレーザ(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
- ドライエッチングと埋め込み再成長法によるGaInAsP/InP歪補償多層量子細線レーザ
- 細線構造を有する分布反射型(DR)レーザ(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎から応用,その他一般)
- 低損傷CH_4/H_2ドライエッチングと埋め込み再成長による1.5μm波長帯GaInAsP/InP歪補償多層細線レーザの低しきい値動作
- 低しきい値・高効率動作のための活性層分離型分布反射型レーザの設計と試作
- GH_4/H_2ドライエッチングと埋め込み再成長によるGaInAs/PInP多層量子細線レーザ
- GaInAsP/InP量子細線レーザの作製とその光学利得特性評価
- GaInAsP/InP量子細線レーザの作製とその光学利得特性評価
- 凹凸形状回折格子を用いた半導体薄膜BH-DFBレーザ(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
- 誘電体クラッド半導体薄膜BH-DFBレーザ(量子効果デバイス(LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
- 誘電体クラッド半導体薄膜BH-DFBレーザ(量子効果デバイス(LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
- 半導体薄膜BH-DFBレーザアレイに関する研究(量子効果型光デバイス,及び光集積化技術,及び一般)
- 半導体薄膜BH-DFBレーザアレイに関する研究(量子効果型光デバイス,及び光集積化技術,及び一般)
- EB露光法による極微構造の作製とGaInAsP/InP量子細線レーザへの応用
- ドライエッチングと埋め込み再成長法によるGaInAsP/InP歪補償多層量子細線レーザ
- 深いエッチング溝にBCBを埋め込んだ1.55μm波長帯単一モード半導体レーザの設計と試作
- 深いエッチング溝にBCBを埋め込んだ1.55μm波長帯単一モード半導体レーザの設計と試作
- 1.55μm波長帯半導体/ベンゾシクロブテン(BCB)分布反射器(DBR)レーザ
- 活性層分離型DFBと量子細線DBRを有する分布反射型レーザの低電流・高効率動作(量子効果デバイス(LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
- 活性層分離型DFBと量子細線DBRを有する分布反射型レーザの低電流・高効率動作(量子効果デバイス(LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
- 低損傷CH_4/H_2ドライエッチングと埋め込み再成長による1.5μm波長帯GaInAsP/InP歪補償多層細線レーザの低しきい値動作
- 垂直回折格子を有する1.5μm波長分布反射型レーザ(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎から応用,その他一般)