内藤 秀幸 | 東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター

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概要

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• 東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センターの論文著者

関連著者

• 荒井 滋久

  東京工業大学

• 荒井 滋久

  東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター:科学技術振興機構

• 荒井 滋久

  東京工業大学 理工学研究科 電気電子工学専攻

• 内藤 秀幸

  東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター

• 阪本 真一

  東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター

• 丸山 武男

  東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター

• 丸山 武男

  金沢大学大学院自然科学研究科

• 丸山 武男

  金沢大学理工研究域

• 荒井 滋久

  東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター:東京工業大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻

• 西山 伸彦

  東京工業大学 精密工学研究所

• 奥村 忠嗣

  東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター

• 田村 茂雄

  東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター

• 田村 茂雄

  東京工業大学 量子ナノエレクトロニクス研究センター

• 大竹 守

  東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター

• 西山 伸彦

  東京工業大学 理工学研究科 電気電子工学専攻

• 奥村 忠嗣

  東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター:東京工業大学電気電子工学専攻

• 奥村 忠嗣

  東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター、電気電子工学専攻

• 奥村 忠嗣

  東京工業大学 量子ナノエレクトロニクス研究センター、電気電子工学専攻

• 西山 伸彦

  東京工業大学

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著作論文

• エアブリッジ構造を用いたGaInAsP/InP半導体薄膜BH-DFBレーザ(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,及び一般)
• 凹凸形状回折格子を用いた半導体薄膜BH-DFBレーザ(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
• エアブリッジ構造を用いたGaInAsP/InP半導体薄膜BH-DFBレーザ(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,及び一般)
• 凹凸形状回折格子を用いた半導体薄膜BH-DFBレーザ(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)

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