回転電極を用いた高圧力プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第1報) -成膜装置の試作とその成膜特性-
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概要
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- 1996-03-01
著者
-
森 勇藏
大阪大学工学部
-
広瀬 喜久治
大阪大学工学研究科
-
芳井 熊安
大阪大学大学院工学研究科
-
芳井 熊安
大阪大学工学部
-
安武 潔
大阪大学 大学院工学研究科
-
垣内 弘章
大阪大学 大学院工学研究科
-
垣内 弘章
大阪大学工学部
-
安武 潔
大阪大学工学研究科
-
芳井 熊安
大阪大学工学部精密工学科
-
片岡 俊彦
大阪大 大学院工学研究科
-
遠藤 勝義
大阪大学工学部
-
片岡 俊彦
大阪大学工学研究科
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