スパッタリングにより作製したアモルファスSi_1_-_xC_x薄膜の結晶化
スポンサーリンク
概要
著者
-
井上 尚三
兵庫県大
-
須崎 嘉文
香川大学工学部
-
芳井 熊安
大阪大学大学院工学研究科
-
芳井 熊安
大阪大学工学部
-
須崎 嘉文
高松工業高等専門学校高機能化技術教育研究センター
-
井上 尚三
姫路工業大学産業機械工学科
-
芳井 熊安
大阪大学工学部精密工学科
関連論文
- 436 薄膜材料を対象とした二軸引張試験技術の開発(T09-3 微小機械システムにおけるマイクロ・ナノ力学(3) マイクロ・ナノ実験力学,大会テーマセッション,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
- 大気圧非平衡マイクロ波プラズマジェットを用いたPENフィルム表面処理における基礎特性
- Ti-Ni薄膜の形状回復力を用いた高接触力MEMSプローブカードの試作
- 大気圧プラズマCVDにより高速形成した多結晶Si薄膜の構造に対するSiH_4濃度の影響
- 大気圧プラズマCVDによる多結晶Siの高速成膜プロセスにおける成膜速度の決定因子
- 大気圧プラズマCVD法によるアモルファスSiCの高速成膜に関する研究(第2報) : 成膜パラメータの最適化による膜構造の改善
- 大気圧プラズマCVD法により高速形成したSiN_x薄膜の構造と成膜パラメータの相関
- 大気圧プラズマCVDによる高速形成したa-SiC薄膜の光学的特性
- 大気圧プラズマCVDによる超高速形成アモルファスSiを発電層とした薄膜太陽電池の基礎特性
- 大気圧プラズマCVD法によるSiN_xの成膜特性
- 回転電極型大気圧プラズマCVD法による多結晶Siの成膜特性
- 20pYD-12 第一原理分子動力学法による CVD エピタキシャル Si 成長初期過程の研究
- 大気圧プラズマCVD法によるエピタキシャルSiの低温かつ高速成長(第1報) : エピタキシャルSi成長条件の検討
- T0302-1-4 Al/Ni発熱多層膜を含むAgSnはんだ接合部材の強度評価(マイクロ・ナノ力学とシステム設計論(1))
- 437 Ag-Snはんだ接合微小要素の強度試験(T09-3 微小機械システムにおけるマイクロ・ナノ力学(3) マイクロ・ナノ実験力学,大会テーマセッション,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
- He大気圧プラズマによるZnO薄膜の作製における酸素流量の効果
- 大気圧低温HeプラズマによるZnO薄膜の作製における原料加熱の効果
- 大気圧開放下で発生させた低温プラズマによるZnO薄膜の作製
- 大気圧低温プラズマを用いたZnO薄膜の作製
- SUS304鋼ターゲットを用いた非平衡マグネトロンスパッタ法によるステンレス鋼薄膜
- 621 非平衡マグネトロンスパッタリング法によって作製した SUS304 ステンレス鋼薄膜
- 210 Ni_2MnGa 強磁性形状記憶合金の変形挙動
- 102 Ni_2MnGa(Fe) 強磁性形状記憶合金の機械的性質におよぼす温度の影響
- T0302-1-3 環境制御型引張試験システムを用いたAl合金薄膜の機械的特性評価(マイクロ・ナノ力学とシステム設計論(1))
- 窒素イオン注入法によるアルミニウム上へのAlNの形成
- 2836 ラマン計測援用単軸引張試験による単結晶Siマイクロ構造体の平面応力定量評価(S08-3 微小機械設計・開発のための実験力学の新展開(3),S08 微小機械設計・開発のための実験力学の新展開)
- オープンエアー低温プラズマを用いたZnO薄膜の作製
- ウェハ上に浮遊微粒子が沈着した半導体デバイスの歩留まりとその予測
- イオンビームスパッタリング法によるITO薄膜の低温成膜におけるHeイオンビーム照射効果
- イオンビームスパッタリング法によるITO薄膜の低温成膜におけるイオンビーム照射効果
- スパッタ法によるa-SiC:H薄膜中の水素濃度および熱放出
- スパッタリングにより作製したアモルファスSi_1_-_xC_x薄膜の結晶化
- アモルファスSiC薄膜の製作とその構造評価
- スパッタ法によるa-Si_1_-_xC_x薄膜の構造
- 非平衡スパッタリング法によるTi-Ni形状記憶合金薄膜の作製とその通電加熱に伴う形状記憶挙動
- 2830 オンチップ曲げ試験による薄膜材料のポアソン比評価技術の開発(S08-2 微小機械設計・開発のための実験力学の新展開(2),S08 微小機械設計・開発のための実験力学の新展開)
- 1108 Al/Ni自己伝播発熱多層膜を用いたはんだ接着MEMSパッケージの接着強度評価(要旨講演,マイクロメカトロニクス)
- Al/Ni多層膜の自己伝播発熱反応を用いたMEMS実装用はんだ接合技術の開発 (特集 マイクロマテリアル)
- 307 MEMSアクチュエータ設計のためのTi-Ni形状記憶合金薄膜の熱機械特性評価(MEMSの計測・モデリング・マルチフィジックスシミュレーション(2),OS03 MEMSの計測・モデリング・マルチフィジックスシミュレーション)
- 斜入射スパッタリング法による特異な微細構造を有する金属薄膜の形成
- MEMS実装に向けたAu-Snはんだ薄膜材料の力学特性評価技術の開発
- マイクロミラー設計に向けた厚膜フォトレジストSU-8の粘弾性特性評価
- Ni_2MnGa 強磁性形状記憶合金単結晶の低リサイクル圧縮疲労挙動
- 829 X 線回折援用引張り試験装置の開発による MEMS 材料の機械的性質評価
- 実効周期可変型機械式長周期ファイバグレーティング(光エレクトロニクス)
- 高周波反応性スパッタリング法による窒化物薄膜作製プロセスにおよぼすターゲット金属の影響
- タイトル無し
- Fe-Pd Ferromagnetic Shape Memory Alloy Thin Films Made By Dual Source DC Magnetron Sputtering
- 高周波反応性スパッタリング法による窒化物薄膜作製プロセスにおよぼすターゲット金属の影響
- SiO2誘電体ターゲットの高周波マグネトロンスパッタリングにおける2重円環状侵食パターンの形成および均一性の検討
- スパッタリング法によって作製したTi/C多層膜の構造と機械的性質
- SUS304 鋼単結晶における加工誘起α'マルテンサイトの生成挙動に及ぼす引張軸方位の影響
- 209 Ti-Ni 合金の水素チャージ下での変形挙動に及ぼす電解液の影響
- 606 Ti-Ni 合金の形状記憶特性におよぼす電流密度の影響
- 337 SUS304 鋼単結晶における加工誘起α′マルテンサイトの生成挙動におよぼす引張軸方位の影響
- 332 Ti-Ni 合金の形状記憶特性に及ぼす水素の影響
- 219 オーステナイト系ステンレス鋼における水素誘起マルテンサイトの生成挙動
- 218 磁気力を利用したα'マルテンサイト測定装置の試作
- プラズマ発光強度信号による高周波反応性スパッタリングプロセスの動的制御
- SUS316鋼およびインコネル600鋭敏化材の粒界腐食と水素ぜい化感受性
- 電子チャンネリングパターン法による応力腐食割れ破面解析(フラクトグラフィ)
- インコネル600鋭敏化材の水素ぜい化挙動
- 反応性スパッタリング法によって作製したAIN/TiN二層薄膜の高温酸化挙動
- SUS316鋼鋭敏化材の水素ぜい化挙動
- 129 SUS316 鋼およびインコネル 600 鋭敏化材の粒界腐食と水素ぜい化感受性
- 冷間加工されたSUS304鋼単結晶の水素ぜい化
- TiN被覆ステンレス鋼におけるピンホール欠陥の電気化学的評価
- 106 CPCD 法による TiN 被覆ステンレス鋼のピンホール欠陥評価
- 冷間加工した純チタンの粒界ぜい化と応力腐食割れ(腐食防食小特集)
- 応力負荷法を異にするSUS304鋼の応力腐食割れ感受性
- 冷間加工したジルカロイ-2の粒界腐食と応力腐食割れ(フラクトグラフィ特集)
- 高周波反応性スパッタリング法によるAl-AlN系傾斜機能薄膜の作製
- 定電位SSRT法によるSUS316鋼単結晶の応力腐食割れ
- 217 応力負荷法を異にするSUS304鋼の応力腐食割れ感受性(腐食)
- 高周波反応性スパッタリング法による(001)NaCl基板上でのTiN薄膜の成長
- 高周波反応性スパッタリング法によって作製したAlN薄膜の構造と組成
- 純銅のNaNo_2溶液中における応力腐食割れ感受性
- 純チタンCH_3OH/HCl溶液中における応力腐食割れとその電位依存性
- SUS316鋼単結晶の応力腐食割れに及ぼす引張軸方位の影響
- SSRT法によるSUS 310S鋼単結晶の応力腐食割れ
- 304 定電位SSRT法によるSUS316鋼単結晶の応力腐食割れ(応力腐食割れ)
- 純チタンのCH_3OH/HCl溶液中における応力腐食割れ
- チューナブル長周期ファイバグレーティングの製作と特性評価(光エレクトロニクス)
- 二段階方式によるファイバグレーティングの温度補償(光エレクトロニクス)
- 434 金属薄膜のヤング率測定法の提案
- 336 異材接合材の引掻き試験に関する基礎的研究
- ポイント露光法によって作製した長周期ファイバーグレーティングにおけるスペクトル特性のシミュレーションを用いた検討
- 連結ファイバーグレーティングのスペクトル評価
- 二光束干渉計を用いて作製したファイバーブラッググレーティングの反射特性におけるアポダイゼーション
- 長周期ファイバグレーティング透過スペクトルの長さ依存性
- T0302-3-1 Al/Ni発熱反応に基づくAgSn共晶はんだ接着部の強度評価([T0302-3]高信頼マイクロ・ナノデバイスのための設計・計測技術(3):微小構造部材の加工・評価)
- T0302-2-3 立体配向顕微鏡を用いた非接触・非破壊歪み計測([T0302-2]高信頼マイクロ・ナノデバイスのための設計・計測技術(2):応力・ひずみ計測)
- T0302-3-3 二軸引張試験によるAl-Si-Cu薄膜の降伏曲面に及ぼすアニールの影響([T0302-3]高信頼マイクロ・ナノデバイスのための設計・計測技術(3):微小構造部材の加工・評価)
- 連結ファイバーグレーティングのスペクトル評価
- 大気圧非平衡DCパルス放電プラズマの発光分光計測及びPENフィルムの表面改質
- オイラー法による大気圧非平衡DCパルスプラズマ中のラジカルシミュレーション
- MNM-P1-3 二軸引張試験によるAl-Si-Cu薄膜の降伏曲面に及ぼすアニールの影響(合同ポスターセッション P1 単結晶・多結晶シリコンの疲労寿命評価とメカニズムの解明)
- 曲げーねじり複合モードでの微小材料強度試験技術の開発
- 116 長周期ファイバーグレーティングの作製(光関連材料,一般セッション)
- スーパーインポーズド・ファイバーグレーティングの重ね描き制限回数