He大気圧プラズマによるZnO薄膜の作製における酸素流量の効果
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概要
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Homogeneous nonequilibrium low temperature plasma was generated under atmospheric pressure by high voltage pulsed power (1kV, 20kHz) excitation of He gas or mixture of He and O_2 gases. Using this cold plasma, ZnO thin films were fabricated on glass substrate exposed to air by feeding Zn-MOPD into the plasma with He carrier gas. Dependence of O_2 gas flow rate on optical transmittance of the ZnO films and resistivity were investigated. In addition, crystallinity and microstructure of the films was studied by XRD measurement and FE-SEM observation.
- 2008-10-05
著者
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須崎 嘉文
香川大学工学部
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鹿間 共一
高松工業高等専門学校
-
江島 正毅
香川大学工学部
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鹿間 共一
高松高専
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小比賀 厚夫
香川大学大学院工学研究科
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須崎 嘉文
香川大学
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鹿間 共一
高松工業高等専門学校高機能化技術教育研究センター
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