回転電極を用いた大気圧プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第5報) -高速形成a-Si薄膜の特性-
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概要
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- 1997-10-01
著者
-
広瀬 喜久治
大阪大学
-
森 勇藏
大阪大学
-
遠藤 勝義
大阪大学大学院工学研究科
-
遠藤 勝義
大阪大学
-
木山 精一
三洋電機(株)
-
堂本 洋一
三洋電機(株)
-
片岡 俊彦
大阪大学大学院
-
芳井 熊安
大阪大学大学院工学研究科
-
安武 潔
大阪大学 大学院工学研究科
-
安武 潔
大阪大学
-
垣内 弘章
大阪大学 大学院工学研究科
-
樽井 久樹
三洋電機(株)
-
吉井 熊安
大阪大学工学部
-
阿武 潔
大阪大学大学院工学研究科
-
芳井 熊安
大阪大学工学部精密工学科
-
片岡 俊彦
大阪大 大学院工学研究科
-
木山 精一
(株)三洋電機
-
木山 精一
三洋電機株式会社 株式会社ジーティシー
-
片岡 俊彦
大阪大学 工学部
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